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防堵半導體技術外流 南韓擴大間諜罪適用範圍

防堵半導體技術外流 南韓擴大間諜罪適用範圍(示意圖)
示意圖/Pixabay(原圖)
本文重點
  • 南韓法規修正案今日正式生效實施
  • 間諜罪適用對象從北韓擴及所有外國
  • 最低刑期定為3年以嚴懲產業間諜
重點整理由 AI 產生、編輯台校閱,全文請見下方報導。

南韓修正刑法擴大間諜罪

為了加強保護國內半導體與各項關鍵產業,南韓主管機關正式啟用新版法規,將間諜罪的規範對象大幅放寬,不再侷限於過往的特定對象。

根據《中央社》與《Yahoo新聞》的引述報導,這項刑事法條的變更旨在填補長久以來的法律漏洞,讓檢調單位在面對非北韓相關的科技竊密時有法可依。

過去僅能辦理北韓相關案件

回顧修法之前的狀況,當局過去辦理間諜案件時,法律條文多半僅針對有利於特定政權的行為進行懲處,導致處理跨國企業或他國勢力的非法刺探顯得綁手綁腳。

路透社的資料提及,檢方過去在調查此類案件時,往往被迫轉向尋求營業秘密法或產業技術防護法等其他法條來處理,因而長年遭受產業界與社會各界的批評。

新增外國組織行為與刑度

在新上路的法規內容中,明確把替外國政府或相關機構從事刺探的行為納入犯罪類型,同時祭出至少3年的有期徒刑底限。

針對這項變動,南韓國家情報院在先前國會投票通過修法時便給予高度肯定,認為此舉對於鞏固國內高科技產業的競爭優勢有顯著幫助。

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#南韓#晶片技術#間諜罪#半導體#產業保密
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