汎銓結盟國研院國儀中心
半導體檢測分析大廠汎銓於27日對外發布消息，確認已與國家實驗研究院國家儀器科技研究中心達成合作共識。雙方將攜手推進類FAB產線驗證技術，希望藉此建立從生產到驗證分析的全套服務模式。
根據《自由時報》報導，這項合作主要著眼於將原有的材料分析專業，進一步推展到製程模擬以及生產驗證的階段，藉此擴大在先進製程與先進封裝領域的布局。
迎戰先進封裝與微縮挑戰
隨著半導體製程不斷朝微縮方向前進，加上極紫外光微影技術、高數值孔徑極紫外光技術以及各類新材料的快速導入，晶片製造的複雜度正顯著攀升。
《自由時報》指出，當客戶準備把新製程推進到量產階段時，所面臨的各項檢驗項目與技術難度也同步增加，這正是促成雙方展開技術合作的重要背景。
董事長柳紀綸談技術應用
在檢驗技術的實際應用方面，汎銓董事長柳紀綸先前曾對外說明，團隊正逐步把原子層沉積技術應用在材料分析的日常作業中。
隨著與國研院國儀中心的合作案正式底定，雙方將共同打造量產前的製程驗證一條龍服務，替未來的營運成長動能添增新的柴火。
